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光亮电镀的几种理论

光亮电镀的几种理论

    1211  细晶理论

    细晶理论的内容为:若镀层的显微结构是由小于最短可见光波长(o4)的晶粒组成的,光可以像在全光滑表面上那样被反射,则镀层呈现光亮。然而,从镀层晶粒的大小来反推镀层是否光亮时,常出现偏差。后来,Readweil指出,并非所有细晶粒的镀层都是光亮的.即镀层晶粒的大小同镀层的光亮性之间并无直接关系。

    12L 2  昂面定向理论

    晶面定向理论是H帅,Rothv1940年提出的,该理论认为镀层的光亮与否决定于晶面在金属表面的定向,仅当晶体的每一个晶面都是有规则的取平行于底材平面的方向,光才能被全反射而达到镜面光亮的镀层。这种看法可以解释部分实验事实,研究证明光亮镀层的晶体结构的定向性并不一定比普通镀层高镜面光亮的镀层也可以完全由无序晶体结构的镀层得到。

    12L 3  胶体膜理论

    J.久Hrtc愧于Ig40年提出的添加剂大部分是酸洗液中所用的抑制剂,而光亮镀层的形成是阴极膜中无机胶体参与的结果。该理论虽有相当的实验依据,但仍局限于实验现象的一般归纳。

    L 214  电子自由流动理论

    1974年,马场宣良提出电子自由流动理论,认为镀层之所以出现光亮是因为镀层中的电子可以自由流动的结果。众所周知,金属品格中充满了可自由流动的电子,当光照射到全局表面时,自由电子迅速把光能传递到整个结晶中去,并立即把光放出,结果一点也不吸收光,显示光亮。自由电子流动理论可以解释光亮产生的原因,以及金属表面粗糙度和添加剂对光亮度的影响,但不能解释含不饱和双键和叁键的光亮剂还原产物

无半导体性质而产生光亮的原因。

    L 2L 5  平滑细晶理论

    实际生产中采用机械打光、化学抛光、电化学抛光和直接进行光亮电镀等方法来获得光亮表面。根据研究者对光亮电镀电化学抛光过程的研究,发现镀层的光亮和镀层表面或底材表面是否平滑、晶粒大小有关,概括起来就是不纫不光,不平不亮。平滑细晶理论的中心思想是必须同时满足镀层表面平滑和结晶细小两个条件。

(U提出乎滑细晶理论的依据光亮电镀

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    L 2L 5  平滑细晶理论

    实际生产中采用机械打光、化学抛光、电化学抛光和直接进行光亮电镀等方法来获得光亮表面。根据研究者对光亮电镀电化学抛光过程的研究,发现镀层的光亮和镀层表面或底材表面是否平滑、晶粒大小有关,概括起来就是不纫不光,不平不亮。平滑细晶理论的中心思想是必须同时满足镀层表面平滑和结晶细小两个条件。

    (U提出乎滑细晶理论的依据

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